極紫外光刻（EUV光刻）
晶片製造難題更多的是在整個產業鏈上的困境，每一個環節都需要做到極致，才可以做到晶片突破，比如在掩膜製造方面。光刻機是將晶片電路圖案投射到光刻機上，但是晶片電路圖案的製造需要使用到光掩膜，這點對於我們來說，需要突破。
而薄膜沉積設備的製造方面，現在我們不是有所欠缺，而是差距很大，也是卡脖子的關鍵設備，在這方面，我們嚴重依賴國外設備製造商，其中就包括美國應用材料公司（AMAT），這個公司很多人都沒有聽說過，甚至是感覺和晶片扯不上半點關係。
但是真實的情況是：AMAT早在上世紀70年代就已經是世界上頂級的半導體企業了，而到了1992年的時候，更是成為了世界上最大的半導體公司，或許說起來半導體企業，大家會想到ASML、三星、台積電，但是，AMAT從成為世界上最大的半導體公司之後，還沒有哪家企業敢在這家企業面前嘚瑟一下。
不錯，AMAT在成為世界第一大半導體公司之後，一直都是半導體界的老大，27年的世界紀錄，無企業了可以匹敵！還記得去年被美國扼住咽喉的福建晉華嗎？以及近來被美國一招搞定的三安光電嗎？這兩家企業都是國內領先的半導體企業，結果瞬間被美國“捏住”
